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蓝宝石衬底超精密CMP抛光液

浏览次数: 日期:2017-11-22

蓝宝石衬底超精密CMP抛光液
化学机械抛光(CMP)技术是目前公认的唯一的全局平坦化技术。现阶段,我国蓝宝石衬底片化学机械抛光使用的抛光液、抛光垫基本依赖进口,价格昂贵使得蓝宝石晶片抛光成本较高。因此,研究自主抛光液对降低国内蓝宝石抛光成本有着积极意义。我公司采用自制的大粒径硅溶胶抛光液来提高抛光速率,并研究了其他因素如抛光液酸碱度、化学添加剂等对表面平整度的影响,优化出最佳工艺条件,在提高抛光速率的同时保证表面平整度以满足工业上对蓝宝石晶片抛光速率和平整度的要求。
抛光液由磨料、速率促进剂、pH值调节剂和表面活性剂等组成。影响去除速率的因素主要有以下几项:
1、磨料粒径
当硅溶胶粒子尺寸过小时,比如20nm,抛光液机械磨削作用较小,抛光速率较慢;而粒径过大时,晶片表面易出现划伤,这是因为在其他条件相同时,粒径越大,机械磨削作用越大,与化学作用相比强机械作用造成表面划伤,且无法有效提高抛光速率;处于中间尺寸粒径的抛光液化学作用与机械作用的相匹配使得抛光速率达到最大并且表面无划伤。
2、磨料浓度
随着研磨料浓度的增大,抛光速率也随之增大。这是由于研磨料浓度的增大,参与机械抛光的有效研磨料颗粒数量增多,从而使抛光速率得到改善。
3、pH值
pH值的不同会改变化学反应的速率以及磨料悬浮的稳定性和磨料的有效性,从而影响抛光效果和去除速率。实验发现,当pH值较小时(碱性条件下),在蓝宝石晶片表面难以形成易去除的表面层,使得抛光速率降低;pH值太大则会使化学反应大于机械作用,在表面形成腐蚀坑,从而影响表面的平整度。
4、促进剂
抛光液中加入速率促进剂,并在合适的酸碱度下,能加速蓝宝石晶片表面与抛光液的化学反应,不断露出新鲜的表面,从而提高材料的去除速率。

 

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工业硅粉

产品性能:   工业硅粉又称金属硅粉,是银灰色或暗灰色粉末,有金属光泽。其熔点高,耐热性能好,电阻率高,具有高度抗氧化作用,被称为“工业味精”是很多高科技产业不可缺少的基础原材料。 〔用途〕 1、工业硅粉广泛的应用于耐火材料、粉末冶金行业中,以提高产品的耐高温,耐磨损和抗氧化性。其产品被广泛地应用于炼钢炉、窑炉、窑具中。 2、在有机硅化工行业,工业硅粉是有机硅高分子合成的基础原料,如用于生产硅单体,硅油、硅橡胶防腐剂,从而提高产品的耐高温性、电绝缘性、耐腐蚀、防水等特性。 3、工业硅粉经拉制成单晶硅,加工而成的硅片被广泛应用于高科技领域,是集成电路、电子元件必不可少的原材料。 4、冶金铸造行业中,工业硅粉作为非铁基合添加剂、硅钢合金剂,从而提高钢淬透性。工业硅粉也可应用于某些金属的还原剂,用于新型陶瓷合金等。 5、用于生产硅溶胶。 常用规格为180~325目、200目、325目、800目等 可根据用户需要提供不同粒径范围。 〔技术指标〕 硅粉 级别 规 格 Si不小于 化学成分%杂质不大于 Fe Al Ca 化 工 用 硅 粉 特级1 Si-1(10-120目) 99.5 0.25 0.15 0.05 特级2 Si-2(10-120目) 99.4 0.3 0.2 0.03 A-1级 Si-A(10-120目) 99.3 0.4 0.1 0.1 A-2级 Si-A(10-120目) 99.1 0.4 0.2 0.1 A-3级 Si-A(10-120目) 99.0 0.4 0.4 0.1 B级 Si-B(10-180目) 98.5 0.5 0.3 0.2 化 工 用 硅 粉 特级1 Si-1(120-180目) 99.5 0.25 0.15 0.05 特级2 Si-2(120-180目) 99.4 0.3 0.2 0.03 A-1级 Si-A(120-180目) 99.3 0.4 0.1 0.1 A-2级 Si-A(120-180目) 99.1 0.4 0.2 0.1 A-3级 Si-A(120-180目) 99.0 0.4 0.4 0.1 B级 Si-B(120-180目) 98.5 0.5 0.3 0.2 C级 Si-C(120-180目) 98.0 0.6 0.4 0.4 冶 金 用 硅 粉 特-1级 Si-T1(180-500目) 99.0 0.4 0.2 0.1 特-2级 Si-T2(180-500目) 98.8 0.4 0.4 0.1 一级 Si-1(180-500目) 98.5 0.5 0.3 0.2 二级 Si-2(180-500目) 98.0 0.6 0.4 0.3 三级 Si-3(180-500目) 97.0 0.8 0.7 0.6 低品位硅粉 低品位 Si(180-500目) 96% 杂质含量≤4.0 Si(180-500目)

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