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镁铝合金的化学机械抛光

作者:银丰销售部浏览次数: 日期:2018-01-03

                     镁铝合金的化学机械抛光
    镁铝合金是具有重要战略意义的金属合金。近年来,随着高新技术的发展,对材料极高精度、近无缺陷的平面化加工技术提出了更高的要求,并且在某些平面装置中,飞片、样品等关键或重要零件,需要对某些合金材料实现极高精度、近无缺陷的超精密平面化加工。镁铝合金材料因其本身优良的性能,在国防、航空、航天、化工、电子以及机械制造等领域得到了愈来愈广泛的应用,并且对其表面完美性提出更高的要求。因此研究镁铝合金材料的表面加工具有重要的应用价值。
    目前国内镁铝合金的表面抛光工艺,主要有机械抛光和化学抛光。机械抛光是通过抛光液中的研磨介质与材料表面的粗糙部分进行充分接触,从而降低材料表面粗糙度的过程,但是此种方法抛光精度较低,但其抛光较快;化学抛光是通过抛光料中的化学成分与被抛光材料发生腐蚀等化学反应,从而将材料表面的粗糙度降低的过程,其抛光精度较高,但是其表面平整度、平行度差。镁铝合金的化学抛光又可分为酸性抛光和碱性抛光,都不易得到令人满意的效果,要得到完美的表面必须发展新的抛光技术。化学机械抛光可以真正使镁铝合金衬底实现全局平面化,从而得到较好的表面和较高的抛光,国内外用此方法对金属抛光应用十分广泛,但对合金抛光应用方面却研究甚少。
化学机械抛光CMP技术是借助超微粒子的研磨和浆料中的化学反应共同作用,集摩擦学、流体力学与化学为一体的超精密平坦化加工技术。它可防止单一机械抛光中硬磨料引起的表面脆性裂纹和凹痕、避免磨粒耕犁引起的隆起及划痕,可获得近无缺陷的光滑表面,且精度极高。因此要想得到低粗糙度高平整化的镁铝合金表面必须采用化学机械抛光技术。
    镁铝合金CMP模型机理是首先金属表面被氧化剂氧化,形成表面质软的氧化膜;表面凸起处的氧化膜被纳米磨粒(如SiO2)的机械磨损除去,脱离表面并在抛光液中进一步发生化学反应,转化为溶于水的物质;而凹处得到氧化膜的有效保护,抛光低。研磨后凸起处的金属被裸露出来,新鲜的表面在抛光液的作用下继续被氧化,机械研磨除去,生成的金属离子或与抛光液中的络合剂反应形成大分子络合物,或形成可溶于水的盐类,被抛光液带走。因此,抛光过程可按照化学反应-磨离-再化学反应-再磨离的方式循环进行,直到得到完美的材料表面。

所属类别: 行业新闻

该资讯的关键词为:镁铝合金CMP  酸性抛光  碱性抛光  有效保护  抛光液 

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产品性能:   工业硅粉又称金属硅粉,是银灰色或暗灰色粉末,有金属光泽。其熔点高,耐热性能好,电阻率高,具有高度抗氧化作用,被称为“工业味精”是很多高科技产业不可缺少的基础原材料。 〔用途〕 1、工业硅粉广泛的应用于耐火材料、粉末冶金行业中,以提高产品的耐高温,耐磨损和抗氧化性。其产品被广泛地应用于炼钢炉、窑炉、窑具中。 2、在有机硅化工行业,工业硅粉是有机硅高分子合成的基础原料,如用于生产硅单体,硅油、硅橡胶防腐剂,从而提高产品的耐高温性、电绝缘性、耐腐蚀、防水等特性。 3、工业硅粉经拉制成单晶硅,加工而成的硅片被广泛应用于高科技领域,是集成电路、电子元件必不可少的原材料。 4、冶金铸造行业中,工业硅粉作为非铁基合添加剂、硅钢合金剂,从而提高钢淬透性。工业硅粉也可应用于某些金属的还原剂,用于新型陶瓷合金等。 5、用于生产硅溶胶。 常用规格为180~325目、200目、325目、800目等 可根据用户需要提供不同粒径范围。 〔技术指标〕 硅粉 级别 规 格 Si不小于 化学成分%杂质不大于 Fe Al Ca 化 工 用 硅 粉 特级1 Si-1(10-120目) 99.5 0.25 0.15 0.05 特级2 Si-2(10-120目) 99.4 0.3 0.2 0.03 A-1级 Si-A(10-120目) 99.3 0.4 0.1 0.1 A-2级 Si-A(10-120目) 99.1 0.4 0.2 0.1 A-3级 Si-A(10-120目) 99.0 0.4 0.4 0.1 B级 Si-B(10-180目) 98.5 0.5 0.3 0.2 化 工 用 硅 粉 特级1 Si-1(120-180目) 99.5 0.25 0.15 0.05 特级2 Si-2(120-180目) 99.4 0.3 0.2 0.03 A-1级 Si-A(120-180目) 99.3 0.4 0.1 0.1 A-2级 Si-A(120-180目) 99.1 0.4 0.2 0.1 A-3级 Si-A(120-180目) 99.0 0.4 0.4 0.1 B级 Si-B(120-180目) 98.5 0.5 0.3 0.2 C级 Si-C(120-180目) 98.0 0.6 0.4 0.4 冶 金 用 硅 粉 特-1级 Si-T1(180-500目) 99.0 0.4 0.2 0.1 特-2级 Si-T2(180-500目) 98.8 0.4 0.4 0.1 一级 Si-1(180-500目) 98.5 0.5 0.3 0.2 二级 Si-2(180-500目) 98.0 0.6 0.4 0.3 三级 Si-3(180-500目) 97.0 0.8 0.7 0.6 低品位硅粉 低品位 Si(180-500目) 96% 杂质含量≤4.0 Si(180-500目)

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